安普(广西 )抛光材料生产厂家

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杭州拱墅石材抛光粉供应,专业研发,效果显著

2021-09-16 12:00:01  2478次浏览 次浏览
价 格:面议

抛光工艺参数 工艺参数有抛光剂的浓度和供给量,抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前,抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加,浓度值达之后,若再增加浓度,抛光速度反而降低。同样,抛光剂的供给量在一定值时,抛光速度,之后若继续增加供给量,抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力,可以增加抛光速度,但压力过大,磨削作用加强,不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘(具)的转速,但线速度过大,抛光剂将会被甩出,造成浪费。

一般而言,产品精磨后,产品的光泽度在40~50左右,而有些石材精磨后达不到上面的光泽度,如山西黑、黑金砂、集宁黑等,此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间,用前面的微粒研磨原理解释不够一面,这种产品在抛光“干与湿”,温度的升高,降温中,强化抛光过程,发生物理化学反应,产品在经过“干抛光、湿抛光”中,光泽度逐步提高,光泽度达95度以上

抛光磨石在被加工产品上抛光,待抛光产品烫手后,将板面加水量水,以起到降温作用,不允许连续加水或大量加水,否则,水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果,也不能全部使用干抛光,过高的温度会烧坏板面,而且会使板面出现裂纹。

抛光磨石一般有两种:树脂抛光块;树脂抛光盘。 产品的抛光:将抛光磨石放在被加工的产品上,用机械设备快速运转及“干抛光、湿抛光”来达到抛光效果,产品表面会出现很强的反射光,这是通常所说的光泽度。 抛光的原理主要反映在2个方面:微粒研磨原理;物理化学原理。

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