载板电镀是先进封装载板（如 IC 载板、扇出型封装载板等）制造中的核心工艺，其质量直接决定载板的电气性能、可靠性及封装良率。由于载板需实现高密度互连（HDI）、超细线路 / 焊盘（线宽 / 线距常＜20μm）及承载芯片的高可靠性要求，其电镀工艺及质量检测标准远高于传统 PCB，核心围绕 “镀层均匀性、致密度、附着力、纯度” 四大维度展开
镀层微观质量：避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能（如电阻、迁移风险）和耐腐蚀性。
孔隙率：
标准：铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²（用酸性硫酸铜溶液测试，孔隙会析出铜粉）；镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²；
检测工具：孔隙率测试仪、SEM（观察微观孔洞）。
晶粒结构：
标准：铜镀层晶粒均匀，平均晶粒尺寸 50-200nm（晶粒过粗易导致镀层脆化，过细易产生应力）；
检测工具：透射电镜（TEM）、X 射线衍射仪（XRD）。
杂质含量：
标准：高纯度铜镀层（99.99% 以上），杂质（如 Fe、Zn、Pb）总含量≤50ppm；镍镀层杂质总含量≤100ppm；
检测工具：电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）。
载板电镀检测需严格遵循标准，确保一致性和可靠性，常用标准包括：
IPC 标准：
IPC-6012DS：《刚性印制板的鉴定与性能规范（载板专用补充版）》，明确载板镀层厚度、附着力要求；
IPC-TM-650：《印制板测试方法手册》，包含镀层厚度、附着力、孔隙率等测试方法。
JEDEC 标准：
JEDEC JESD22-A108：《集成电路封装的电迁移测试》；
JEDEC JESD22-B103：《高温存储测试》，用于评估镀层长期耐热性。
企业定制标准：
主流封装厂（如台积电、长电科技）会在上述标准基础上提出更严格要求（如凸点高度偏差≤±5%），需根据具体订单调整检测阈值。
生产效率
水平线生产速度1.5-6.0m/min，具体根据基材厚度，小孔径，盲孔，纵横比等参数调整，整个流程时间在4-10min;
导通能力
No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善)