低信号损耗：利用银等低电阻率金属作为镀层材料，在高频趋肤效应下，降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下，插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。
种子层沉积：构建导电基底
采用物相沉积（PVD）或化学镀，在绝缘基材表面沉积超薄导电层（铜或镍）。
种子层厚度控制在 0.1-0.5μm，要求覆盖均匀、无针孔，为后续图形电镀提供稳定导电通道。
沉积后需做简易附着力检测，避免种子层脱落影响后续工艺。
图形转移：定义线路与镀层区域
涂布高精度光刻胶 / 干膜，通过曝光、显影工艺，将线路图形转移到基材表面。
高频高速板对图形精度要求，需控制线宽 / 线距偏差≤±1μm，避免开窗偏移导致镀层错位。
显影后进行检查修正，去除残留胶渣，确保线路区域完全裸露、非线路区域被保护。
去胶与蚀刻：剥离多余金属
用化学脱胶剂或等离子体去除表面光刻胶 / 干膜，露出下方未被电镀覆盖的种子层。
采用微蚀工艺，蚀刻掉多余种子层，仅保留电镀形成的功能线路，控制侧蚀量≤0.5μm。
蚀刻后彻底水洗，避免残留药剂腐蚀镀层或基材。